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J-GLOBAL ID:200903016776172110

塗布装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 谷 義一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993033367
Publication number (International publication number):1994246209
Application date: Feb. 23, 1993
Publication date: Sep. 06, 1994
Summary:
【要約】【目的】 直線、曲線のような形状に均一に溶液を被塗布物に均一に塗布することのできる塗布装置を提供する。【構成】 塗布装置は、被塗布物10に高分子溶液を微量排出するためのマイクロピペット11と、このマイクロピペット11に高分子溶液を提供するためのシリンジポンプ5とXYステージ3とを具備する。
Claim (excerpt):
被塗布物へ液体を塗布する塗布装置において、前記液体を微量排出するための微小ノズルと、該微小ノズルへ前記液体を供給するための微量供給ポンプと前記被塗布物を載せるためのXYステージとを具備したことを特徴とする塗布装置。
IPC (5):
B05C 5/00 ,  B05C 11/10 ,  B05C 13/00 ,  G02B 6/12 ,  G03F 7/16 501

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