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J-GLOBAL ID：200903016794770580

電子線、EUV又はX線用レジスト組成物

Inventor： 水谷 一良 ,  高橋 表
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003035456
Publication number (International publication number)：2004004557
Application date： Feb. 13, 2003
Publication date： Jan. 08, 2004
Summary：

【課題】感度と解像性に優れ、更には矩形なパターン形状、溶解コントラスト、エッジラフネスをも満足する電子線、EUV又はX線用レジスト組成物を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とする電子線、EUV又はX線用レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A1)ジフェニルヨードニウム塩より高還元電位をもつ、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする電子線、EUV又はX線用レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (4)：

G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 531Z ,  H01L21/30 541P

F-Term (18)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17 ,  5F046GA16 ,  5F056DA04 ,  5F056DA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• ポジ型電子線又はX線レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-252141   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-058430   Applicant：松下電器産業株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-212946   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-047971   Applicant：富士写真フイルム株式会社