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J-GLOBAL ID：200903016798083391

ラジカル源装置

Inventor： 三宅 浩二 ,  三上 隆司 ,  田原 英明
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 藤田 龍太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993342919
Publication number (International publication number)：1995169594
Application date： Dec. 14, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ラジカルフラックス量の低減を抑制する。【構成】 プラズマを生成する筐体1と、引出電極系27とを備えたラジカル源装置において、電極系27をパイレックスガラス,石英,アルミナ等の絶縁物で構成する。

Claim (excerpt)：

プラズマを生成する筐体と、引出電極系とを備えたラジカル源装置において、前記電極系をパイレックスガラス,石英,アルミナ等の絶縁物で構成したラジカル源装置。

IPC (4)：

H05H 3/02 ,  C23C 14/32 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/3065