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J-GLOBAL ID：200903016829279621

微細パターンの転写方法

Inventor： 久保薗 健一 ,  梅田 和夫 ,  浅香 健二
Applicant, Patent owner： 株式会社ジーティシー
Agent (1)： 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992036758
Publication number (International publication number)：1994089858
Application date： Feb. 24, 1992
Publication date： Mar. 29, 1994
Summary：

【要約】【構成】 被加工物3の一面上に粘着層5を形成し、基板9の一面上に微細パターン8を形成し、被加工物3と基板9とを平行に保持した状態で、粘着層5と微細パターン8とを圧着せしめた後に、基板9と微細パターン8とを剥離させる。【効果】 微細パターンを基板から被加工物へ正確かつ鮮明に、しかも効率的かつ安価に転写形成することができる。

Claim (excerpt)：

被加工物の一面上に粘着層を形成し、基板の一面上に微細パターンを形成し、該被加工物と該基板とを平行に保持した状態で、上記粘着層と上記微細パターンとを圧着せしめた後に、上記基板と上記微細パターンとを剥離せしめることを特徴とする微細パターンの転写方法。

IPC (6)：

H01L 21/027 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/136 500 ,  G03F 9/00 ,  H05K 3/20 ,  H01L 29/784

FI (2)：

H01L 21/30 361 R ,  H01L 29/78 311 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• アライメント転写方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-245574   Applicant：大日本印刷株式会社
• 特開平4-056826
  
• 特開平4-260389
  
• 特開平4-112076