Pat
J-GLOBAL ID：200903016831680430
投影光学系の検査方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
田辺 恵基
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991306764
Publication number (International publication number)：1993118957
Application date： Oct. 24, 1991
Publication date： May. 14, 1993
Summary：
【要約】【目的】本発明は、投影光学系の検査方法において、検査時間を短縮すると共に検査再現性を向上しようとするものである。【構成】遮光パターンの空間像又は光透過パターンの空間像を、投影光学系に関してその遮光パターン又は光透過パターンとほぼ共役な面上に設けたスリツト又はエツジでスキヤン(相対走査)する。若しくは撮像部材によつて取り込み、遮光パターンの空間像又は光透過パターンの空間像の両端の第1及び第2の擬似ピークの強度差を計測するのみの簡易な手順で投影光学系の非対称収差を検査することができる。
Claim (excerpt)：
所定のパターンを基板上に結像投影するための投影光学系を検査する投影投影光学系の検査方法において、光透過部に設けた単数又は複数の遮光パターンの空間像、若しくは遮光部に設けた単数又は複数の光透過パターンの空間像を検査対象の上記投影光学系により形成し、上記遮光パターンの空間像又は上記光透過パターンの空間像を受光し、当該遮光パターンの空間像又は当該光透過パターンの空間像の両端の第1及び第2の擬似ピークの強度をそれぞれ計測し、当該第1及び第2の擬似ピークの強度差に基づいて上記投影光学系の収差量を求めるようにしたことを特徴とする投影光学系の検査方法。
IPC (2)：
G01M 11/02
, G03F 7/20 521
