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J-GLOBAL ID：200903016867657931

水素供給装置

Inventor： 近藤 靖男 ,  川口 清司 ,  寺尾 公良
Applicant, Patent owner： 株式会社デンソー
Agent (1)： 伊藤 洋二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000308033
Publication number (International publication number)：2002121004
Application date： Oct. 06, 2000
Publication date： Apr. 23, 2002
Summary：

【要約】【課題】 蒸発器で蒸発・気化させた改質原料を改質して水素消費装置に水素を供給する水素供給装置において、蒸発器における堆積物の発生を防止する。【解決手段】 水および空気、改質燃料からなる改質原料の供給源を、少なくとも水を含む第1の改質原料を供給する第1改質原料供給部10と、少なくとも水素化合物を含む第2の改質原料を供給する第2改質原料供給部30とに分割する。第2改質原料供給部30を熱交換部20の下流側に配置する。熱交換部20では、第1改質原料のみを加熱・気化し、熱交換部20の下流側で第2改質原料を第1改質原料に混合して気化する。

Claim (excerpt)：

水素消費装置(50)に供給する水素を生成する水素供給装置であって、改質原料が通過する低温流体通路(A)と、燃焼ガスを発生させる燃焼ガス供給部(60)が設けられた高温流体通路(B)と、前記低温流体通路(A)に配置され、少なくとも水を含む第1の改質原料を供給する第1改質原料供給部(10)と、前記低温流体通路(A)における前記第1改質原料供給部(10)の下流側に配置され、前記燃焼ガスの燃焼熱を前記第1の改質原料に伝える熱交換部(20)と、前記低温流体通路(A)における前記熱交換部(20)の下流側に配置され、少なくとも水素化合物を含む第2の改質原料を供給し、前記第1の改質原料と前記第2改質原料とを混合して前記改質原料を生成する第2改質原料供給部(30)と、前記低温流体通路(A)における前記第2改質原料供給部(30)の下流側に配置され、触媒反応により前記改質原料を水素に改質する改質部(40)とを備えていることを特徴とする水素供給装置。

IPC (4)：

C01B 3/38 ,  C01B 3/32 ,  H01M 8/04 ,  H01M 8/06

FI (4)：

C01B 3/38 ,  C01B 3/32 A ,  H01M 8/04 N ,  H01M 8/06 G

F-Term (17)：

4G040EA05 ,  4G040EA06 ,  4G040EB03 ,  4G040EB12 ,  4G040EB31 ,  4G040EB42 ,  4G040EB45 ,  4G140EA05 ,  4G140EA06 ,  4G140EB03 ,  4G140EB12 ,  4G140EB31 ,  4G140EB42 ,  4G140EB45 ,  5H027AA02 ,  5H027BA09 ,  5H027BA16