マイクロシステムにおける流れの制御方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西澤利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000362915
Publication number (International publication number)：2002163022
Application date： Nov. 29, 2000
Publication date： Jun. 07, 2002
Summary：

【要約】【課題】複雑なバルブ構造を用いることなく、マイクロシステムにおける流体の流れを簡便に制御する方法を提供する。【解決手段】マイクロシステムの微小流路を流れる流体に、刺激によりゾル-ゲル転移する物質を添加し、微小流路上の所望の箇所に刺激を与え、流体をゲル化させて流れを制御する。

Claim (excerpt)：

マイクロシステムにおける流体の流れを制御する方法であって、マイクロシステムの微小流路を流れる流体に、刺激によりゾル-ゲル転移する物質を添加し、微小流路上の所望の箇所に刺激を与え、流体をゲル化させて流れを制御することを特徴とするマイクロシステムにおける流れの制御方法。

IPC (6)：

G05D 7/00 , C08L 1/28 , F15B 21/06 , G01N 27/447 , G01N 37/00 101 , G05D 7/06

FI (6)：

G05D 7/00 B , C08L 1/28 , F15B 21/06 , G01N 37/00 101 , G05D 7/06 Z , G01N 27/26 331 E

F-Term (19)：

3H082CC05 , 3H082DD12 , 3H082EE20 , 4J002AB031 , 4J002AD011 , 4J002BG121 , 4J002GT00 , 4J002HA01 , 4J002HA03 , 5H307AA15 , 5H307AA20 , 5H307BB05 , 5H307CC03 , 5H307DD11 , 5H307DD12 , 5H307EE04 , 5H307EE36 , 5H307ES02 , 5H307HH01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開平4-282088
電気レオロジー流体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-294103 Applicant：新日本製鐵株式会社
弁
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-193155 Applicant：ルークゲトリーベ-ジステーメゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

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特開平4-282088
特開平4-282088
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Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-294103 Applicant：新日本製鐵株式会社

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