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J-GLOBAL ID：200903016924735952
レジスト材料およびそれを用いるパターン形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
青木 朗 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992060469
Publication number (International publication number)：1993265212
Application date： Mar. 17, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：
【要約】【目的】 電離放射線に対して透明性が優れ、十分なドライエッチング耐性をもち、高感度な放射線用レジスト材料を提供する。【構成】 エステル部分にアダマンタン骨格を有するアクリル酸エステルまたはα置換アクリル酸エステルとアクリル酸またはα置換アクリル酸のテトラヒドロピラニルエステルとの共重合体を用いる。
Claim (excerpt)：
エステル部分にアダマンタン骨格を有するアクリル酸エステルまたはα置換アクリル酸エステルとアクリル酸またはα置換アクリル酸のテトラヒドロピラニルエステルとの共重合体からなるレジスト材料。
IPC (5)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/029
, H01L 21/027
, H01L 21/312
H01L 21/30 301 R
, H01L 21/30 331 M
