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J-GLOBAL ID：200903017030060100

電子ビーム装置における焦点合わせ方法および非点補正方法並びに電子ビーム装置

Inventor： 小林 利治
Applicant, Patent owner： 日本電子株式会社
Agent (1)： 井島 藤治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994268941
Publication number (International publication number)：1996138605
Application date： Nov. 01, 1994
Publication date： May. 31, 1996
Summary：

【要約】【目的】 試料の特定部分にのみ特徴領域が存在している試料であっても、短時間に高い精度で焦点合わせや非点の補正を行うことができる電子ビーム装置における焦点合わせおよび非点補正方法並びに電子ビーム装置を実現する。【構成】 焦点合わせや非点補正動作に先立って、試料4の所定領域において間引きラスター走査が実施される。各ラスター走査に基づいて検出器6から得られた信号は積分器11に供給されて走査ラインごとに積分処理が行われる。各ラインごとの積分結果はメモリー13に記憶される。制御回路14は、メモリー13に記憶された各走査ラインごとの積分結果を比較し、最大強度が得られた走査ラインを検出する。制御回路14はこの検出された走査ラインに基づき、この走査ラインを含む所定の幅の走査領域を指定し、偏向制御回路17を制御して焦点合わせや非点補正を実施する。

Claim (excerpt)：

電子ビームを試料上に集束するための集束レンズの強度をステップ状に変化させ、その変化の都度、試料上の所定領域を電子ビームによって走査し、この走査に伴って得られた信号に基づき、最適集束レンズの強度を検出し、その強度に集束レンズ強度の設定を行うようにした電子ビーム装置における焦点合わせ方法において、事前に第1の試料領域で所定の走査単位ごとに電子ビームの走査を行い、各走査単位ごとの信号強度から最大の信号強度が得られた走査単位を選択し、選択された走査単位に基づく第2の試料領域で前記焦点合わせ動作を実行するようにしたことを特徴とする電子ビーム装置における焦点合わせ方法。

IPC (2)：

H01J 37/21 ,  H01J 37/153