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J-GLOBAL ID：200903017038166013

化粧料

Inventor： 名取 由美 ,  西田 勇一
Applicant, Patent owner： ライオン株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991049924
Publication number (International publication number)：1993194153
Application date： Mar. 14, 1991
Publication date： Aug. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】粉末化、ペースト化若しくは固体化した際の保存性に優れ、かつ容易に液状化粧料に復元することができる化粧料を提供する。【構成】化粧料基材に、サイクロデキストリン及びサイクロデキストリン誘導体のうち少なくとも1種5.0乃至90.0重量%とを配合することを特徴とする化粧料である。サイクロデキストリンとしては、α-サイクロデキストリン、β-サイクロデキストリン、γ-サイクロデキストリン及びδ-サイクロデキストリンを使用することができる。サイクロデキストリン誘導体としては、分岐型サイクロデキストリン及び部分アルキル化サイクロデキストリンを使用することができる。

Claim (excerpt)：

化粧料基材に、サイクロデキストリン及びサイクロデキストリン誘導体のうち少なくとも1種を5.0乃至90.0重量%配合したことを特徴とする化粧料。

IPC (3)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/00 ,  C08B 37/16