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J-GLOBAL ID:200903017039298126

ガス噴射ヘッド

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998313752
Publication number (International publication number):2000144432
Application date: Nov. 04, 1998
Publication date: May. 26, 2000
Summary:
【要約】【課題】 濃度や成分の均一な混合ガスを早期反応を防止しつつ安定した状態で基板に向けて均一に噴射することができるガス噴射ヘッドを提供する。【解決手段】 少なくとも2種の反応ガスを個別に収容する少なくとも2つのガス空間70,72を形成する噴射ヘッド66本体と、前記噴射ヘッド本体の下面に配置された複数のガス噴射孔78と、前記ガス噴射孔にそれぞれ配置され、前記少なくとも2つのガス空間から前記少なくとも2種の反応ガスを個別に導入して噴射する同軸多流体ノズルとを有する。
Claim (excerpt):
少なくとも2種の反応ガスを個別に収容する少なくとも2つのガス空間を形成する噴射ヘッド本体と、前記噴射ヘッド本体の下面に配置された複数のガス噴射孔と、前記ガス噴射孔にそれぞれ配置され、前記少なくとも2つのガス空間から前記少なくとも2種の反応ガスを個別に導入して噴射する同軸多流体ノズルとを有することを特徴とするガス噴射ヘッド。
IPC (5):
C23C 16/455 ,  B01F 3/02 ,  B01F 5/00 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/316
FI (5):
C23C 16/44 D ,  B01F 3/02 ,  B01F 5/00 Z ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/316 X
F-Term (35):
4G035AB02 ,  4G035AC48 ,  4G035AE13 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA01 ,  4K030BA42 ,  4K030BA46 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030GA02 ,  4K030KA25 ,  4K030LA01 ,  4K030LA15 ,  5F045AA03 ,  5F045AB31 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EF05 ,  5F045EF08 ,  5F045EM10 ,  5F045EN04 ,  5F058BA20 ,  5F058BB06 ,  5F058BC03 ,  5F058BF03 ,  5F058BF27 ,  5F058BF29 ,  5F058BG01 ,  5F058BG02 ,  5F058BG03 ,  5F058BG04 ,  5F058BJ01

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