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J-GLOBAL ID：200903017041240631

セラミックス微粒子の製造方法及びその装置

Inventor： 小栗 伸司 ,  西村 徹 ,  傳 慶一
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 細田 芳徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995070788
Publication number (International publication number)：1996239271
Application date： Mar. 02, 1995
Publication date： Sep. 17, 1996
Summary：

【要約】【構成】一種類または複数種類の金属化合物を気化させ原料ガスとし、該原料ガスをキャリアーガスにより反応槽に供給し、ガス流れが実質的に完全混合流れ下にある反応槽内部で原料ガスを反応させることを特徴とするセラミックス微粒子の製造方法、及び該微粒子の製造装置。【効果】本発明によれば、CVD反応場の流れとして、実質的な完全混合流れを採用したことにより、生成微粒子の滞留時間が実質的にゼロから無限大までとなり、粒径分布の広い、多分散なセラミックス微粒子を得ることが可能となった。得られた多分散セラミックス微粒子を基板上に堆積させることで、表面積増大の効果を生かした種々の有用な材を提供し得る。

Claim (excerpt)：

一種類または複数種類の金属化合物を気化させ原料ガスとし、該原料ガスをキャリアーガスにより反応槽に供給し、ガス流れが実質的に完全混合流れ下にある反応槽内部で原料ガスを反応させることを特徴とするセラミックス微粒子の製造方法。

IPC (3)：

C04B 35/626 ,  B01J 19/00 ,  C01G 23/07

FI (3)：

C04B 35/00 A ,  B01J 19/00 N ,  C01G 23/07