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J-GLOBAL ID：200903017083564917

チタン酸化物混在型高活性光触媒薄膜及びその製造方法

Inventor： 住田 泰史 ,  山本 春也 ,  八巻 徹也 ,  宮下 敦巳
Applicant, Patent owner： 日本原子力研究所
Agent (1)： 社本 一夫 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000372691
Publication number (International publication number)：2002177789
Application date： Dec. 07, 2000
Publication date： Jun. 25, 2002
Summary：

【要約】【課題】 アナターゼ型結晶構造のTiO2とTi2O3の混在した配向性膜を作製することにより、従来のアナターゼ型及びルチル型TiO2薄膜に比べ光触媒反応効率などの特性を向上させようとするものである。即ち、TiO2とTi2O3の混在した膜を光触媒として用いることにより窒素酸化物等の有害ガスの分解、除去を行う反応効率の向上を目的としている。【解決方法】 レーザ蒸着法によりα-Al2O3単結晶基板上にアナターゼ型TiO2とTi2O3が混在した高い活性を持つ光触媒薄膜の作製する。そのアナターゼ型TiO2とTi2O3結晶構造の酸化チタン薄膜を形成させる基板温度は、450°C〜550°Cに制御され、酸素ガス圧は30mTorr〜40mTorrに制御する。

Claim (excerpt)：

アナターゼ型TiO2とTi2O3を混在した薄膜を形成させることにより、高い活性を持つ光触媒薄膜。

IPC (5)：

B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301 ,  B01J 37/34 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/28

FI (5)：

B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 P ,  B01J 37/34 ,  C23C 14/08 E ,  C23C 14/28

F-Term (33)：

4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA14 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069CA01 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA13 ,  4G069DA06 ,  4G069EA07 ,  4G069EC22X ,  4G069FB02 ,  4G069FC06 ,  4G069FC07 ,  4K029AA07 ,  4K029AA24 ,  4K029BA48 ,  4K029BC00 ,  4K029BD00 ,  4K029CA02 ,  4K029DB03 ,  4K029DB08 ,  4K029DB20 ,  4K029EA03 ,  4K029EA08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 光輝材料、コーティング組成物及び塗装品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-102193   Applicant：松下電工株式会社
• 水没式赤水・水苔発生抑制装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-079253   Applicant：株式会社ダイワ総業
• 機能性薄膜がコーティングされた製品の製造方法、及び機能性薄膜がコーティングされた製品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-063702   Applicant：東陶機器株式会社

Cited by examiner (3)

• 光輝材料、コーティング組成物及び塗装品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-102193   Applicant：松下電工株式会社
• 機能性薄膜がコーティングされた製品の製造方法、及び機能性薄膜がコーティングされた製品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-063702   Applicant：東陶機器株式会社
• 水没式赤水・水苔発生抑制装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-079253   Applicant：株式会社ダイワ総業

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• レーザー蒸着法による高配向性TiO2薄膜の作成

Cited by examiner (1)

• レーザー蒸着法による高配向性TiO2薄膜の作成