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J-GLOBAL ID:200903017086688668
プラズマ処理装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
武 顕次郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991339519
Publication number (International publication number):1993152216
Application date: Nov. 29, 1991
Publication date: Jun. 18, 1993
Summary:
【要約】【目的】 プラズマ処理室とマイクロ波導波管との結合部に設置されるマイクロ波導入窓として、組立取付が簡単で、マイクロ波導入窓に加わる圧力荷重に充分耐え、かつ該処理室内に導入されるマイクロ波電力が最大になるマイクロ波導入窓を備えたプラズマ処理装置を提供すること。【構成】 円錐形マイクロ波導波管3とプラズマ処理室1との結合を、上フランジ部6と下フランジ部7とによる嵌め合い構造にし、これらにより所定の材質で所定の厚さのマイクロ波導入窓(誘電体円盤状部材)5を挾んで保持する。このとき、マイクロ波導入窓5の材質及び厚みは、マイクロ波の反射率が最小となり、かつ導入窓の断面積に加わる真空力に耐えられるように選定する。マイクロ波の周波数が2.45GHzの場合、マイクロ波導入窓5の材質として石英を用いた場合には、その厚みを33mm、アルミナセラミックスを用いる場合には21mmとし、それぞれ許容範囲を±1mm程度とする。
Claim (excerpt):
マイクロ波発生源からのマイクロ波を、錐体形をなして広がった開口部を有するマイクロ波導波管を用いてプラズマ処理室に供給する方式のプラズマ処理装置において、上記開口部とプラズマ処理室との結合部分に嵌合部をもって形成した一対のフランジ部材と、このフランジ部材の嵌合部に挾み込み保持した上記開口部封止用の誘電体板状部材とを設け、上記マイクロ波導波管と上記板状部材とを上記プラズマ処理室に対して着脱自在に構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2):
H01L 21/205
, H01L 21/302
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