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J-GLOBAL ID：200903017115545367
イオン注入装置及びイオン注入方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山本 孝久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992341061
Publication number (International publication number)：1994168696
Application date： Nov. 30, 1992
Publication date： Jun. 14, 1994
Summary：
【要約】【目的】金属汚染等が発生することなく、例えば1枚のウエハの異なる領域に異なるイオン注入条件によってイオン注入を施し得るイオン注入装置及びイオン注入方法を提供する。【構成】イオンを含有したイオンビームを被加工物20に注入するイオン注入装置は、必要に応じてイオンビームが被加工物に到達しないように、イオンビームを偏向させる偏向手段30を具備する。イオンを含有したイオンビームを被加工物に注入するイオン注入方法は、必要に応じてイオンビームが被加工物に到達しないようにイオンビームを偏向させ、以て被加工物にイオン注入条件の相違した領域を形成する。
Claim (excerpt)：
イオンを含有したイオンビームを被加工物に注入するイオン注入装置であって、必要に応じてイオンビームが被加工物に到達しないように、イオンビームを偏向させる偏向手段を具備することを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3)：
H01J 37/317
, H01J 37/147
, H01L 21/265
