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J-GLOBAL ID：200903017143854820
石英系ガラス膜の製造方法及び製造装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994272505
Publication number (International publication number)：1996133785
Application date： Nov. 07, 1994
Publication date： May. 28, 1996
Summary：
【要約】【目的】 成膜後熱プロセスによる収縮を抑制することができる石英系ガラス膜を製造する。【構成】 CVD反応器1内の上部カソード電極4と下部アノード電極5との間にプラズマを発生させ、そのプラズマ内で反応ガスを活性化させてプラズマ領域内の上方に配置した被処理材13上に石英系ガラス膜を形成する。
Claim (excerpt)：
CVD反応器内の上部カソード電極と下部アノード電極との間にプラズマを発生させ、そのプラズマ内で反応ガスを活性化させてプラズマ領域内の上方に配置した被処理材上に石英系ガラス膜を形成することを特徴とする石英系ガラス膜の製造方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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