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J-GLOBAL ID：200903017144735990

微細構造計測方法及びその計測装置

Inventor： 西山 陽二 ,  塚原 博之
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002208241
Publication number (International publication number)：2004053307
Application date： Jul. 17, 2002
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：

【課題】従来の2波長位相シフト法を改良し、1組の位相シフト動作を行うだけで、2つの異なる光源波長に対する縞次数を決定することを可能にする。【解決手段】微細構造計測方法は、波長の異なる複数の光源光を同時に計測対象の物体表面と参照面に照射しつつ、撮像装置を用いて干渉画像を撮像し、物体表面と参照面との光路差を複数回変更することにより、複数枚の干渉画像を取得する手順と、取得した干渉画像の各点に対応する計測対象の各点において、各光源波長に対する干渉の位相をそれぞれ算出する手順と、算出した各光源波長に対する干渉の位相に基づいて各光源波長に対する縞次数を決定する手順と、算出した縞次数と位相に基づいて物体表面の各点における形状を算出する手順とからなる。【選択図】 図10

Claim (excerpt)：

波長の異なる複数の光源光を同時に計測対象の物体表面と参照面に照射しつつ、撮像部を用いて干渉画像を撮像し、前記物体表面と前記参照面との光路差を複数回変更することにより、複数枚の干渉画像を取得する撮像手順と、 前記撮像手順で取得した前記干渉画像の各点に対応する計測対象の各点において、各光源波長に対する干渉の位相をそれぞれ算出する位相算出手順と、 前記位相算出手順で算出した各光源波長に対する干渉の位相に基づいて、各光源波長に対する縞次数を決定する縞次数決定手順と、 前記縞次数と前記位相に基づいて、前記物体表面の各点における形状を算出する形状算出手順と、 からなることを特徴とする微細構造計測方法。

IPC (2)：

G01B11/24 ,  G01B9/02

FI (2)：

G01B11/24 D ,  G01B9/02

F-Term (30)：

2F064AA09 ,  2F064CC10 ,  2F064DD01 ,  2F064DD08 ,  2F064EE01 ,  2F064FF06 ,  2F064FF07 ,  2F064GG01 ,  2F064GG22 ,  2F064GG42 ,  2F064GG52 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ00 ,  2F064JJ01 ,  2F064JJ06 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065FF52 ,  2F065FF55 ,  2F065GG23 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL11 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ31 ,  2F065UU01 ,  2F065UU05