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J-GLOBAL ID：200903017211341063

検出装置及び検出方法

Inventor： 飯田 洋一郎 ,  宇都宮 紀彦
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (3)： 宮崎 昭夫 ,  石橋 政幸 ,  緒方 雅昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007072676
Publication number (International publication number)：2008232819
Application date： Mar. 20, 2007
Publication date： Oct. 02, 2008
Summary：

【課題】透過光を用いて素子の傾きを検出することによって、素子の設置誤差を小さくする。【解決手段】素子の傾きを検出する検出装置である。素子1を保持するとともに、該素子1の傾きを変更する保持手段10と、素子1に検出光を照射する照射手段2と、素子1を透過した検出光を受光し、受光した光の特性を計測する計測手段3を有する。また、素子1の傾きを複数回変更させた際の、計測手段3の出力値の変化に基づいて、検出光の光軸に対する素子1の傾きを求める演算手段40を有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

素子の傾きを検出する検出装置において、 前記素子を保持するとともに、該素子の傾きを変更する保持手段と、 前記素子に検出光を照射する照射手段と、 前記素子を透過した前記検出光を受光し、受光した光の特性を計測する計測手段と、 前記素子の傾きを複数回変更させた際の、前記計測手段の出力値の変化に基づいて、前記検出光の光軸に対する前記素子の傾きを求める演算手段と、を有することを特徴とする検出装置。

IPC (1)：

G01N 21/27

FI (1)：

G01N21/27 C

F-Term (4)：

2G059AA01 ,  2G059BB13 ,  2G059CC16 ,  2G059LL01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-184645   Applicant：富士写真フイルム株式会社