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J-GLOBAL ID：200903017211438628

試料照射装置

Inventor： ユーゲン、ホフマン
Applicant, Patent owner： ライカ マイクロシステムズ ハイデルベルク ゲーエムベーハー
Agent (1)： 木村 高久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001070538
Publication number (International publication number)：2001290081
Application date： Mar. 13, 2001
Publication date： Oct. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】その配置が簡素であり、各誘導ビーム経路用の光学素子の数を削減することができるような試料照射装置を提供する。【解決手段】本発明は、好ましくは共焦点蛍光走査型顕微鏡法において、1つの光源(3)の1つの照射ビーム経路(2)およびさらに別の光源(5)の少なくとも1つのさらに別の照射ビーム経路(4)を有する試料(1)を照射する装置に関する。照射ビーム経路における配置を簡素にし、光学素子を削減するために、少なくとも1つの光学素子(7)が照射ビーム経路(2,4)の少なくとも一方に配置され、光学素子(7)が光を変性するようになっている。

Claim (excerpt)：

好ましくは共焦点蛍光走査型顕微鏡法において、1つの光源(3)の1つの照射ビーム経路(2)およびさらに別の光源(5)の少なくとも1つのさらに別の照射ビーム経路(4)を有し、前記照射ビーム経路(2,4)が互いに少なくとも部分的に重なり合うことができるような試料(1)を照射する装置であって、少なくとも1つの光学素子(7)が前記照射ビーム経路(2,4)の少なくとも一方に配置され、光を変性することと、試料領域における前記照射ビーム経路(2,4)の照射パターンが形状を変形するように、前記素子(7)の光学特性が影響を受けるまたは変性されることと、を特徴とする装置。

IPC (3)：

G02B 21/06 ,  G01N 21/64 ,  G02B 21/00

FI (3)：

G02B 21/06 ,  G01N 21/64 E ,  G02B 21/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 顕微鏡におけるアダプティブ光学装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-214675   Applicant：カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
• 特開昭56-137324