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J-GLOBAL ID：200903017235807705

防曇性被膜形成基材およびその製造方法

Inventor： 山崎 誠司 ,  村田 昇 ,  山本 秀樹
Applicant, Patent owner： セントラル硝子株式会社
Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999335334
Publication number (International publication number)：2001152137
Application date： Nov. 26, 1999
Publication date： Jun. 05, 2001
Summary：

【要約】【課題】防曇性、耐水拭き性、耐摩耗性に優れ、長期間にわたり防曇性能を維持することが可能な防曇性被膜を得ること。【解決手段】基材表面に、吸水性有機高分子とシリカを含む 無機物質よりなる吸水性有機無機複合被膜を被覆し、その表面に撥水性被膜を形成する等の撥水性加工をしてなること。

Claim (excerpt)：

基材表面に、吸水性有機高分子と無機物質よりなる吸水性有機無機複合被膜を被覆し、その表面を撥水性加工してなることを特徴とする防曇性被膜形成基材。

IPC (3)：

C09K 3/18 ,  C03C 17/00 ,  C03C 17/38

FI (3)：

C09K 3/18 ,  C03C 17/00 ,  C03C 17/38

F-Term (16)：

4G059AA01 ,  4G059AC21 ,  4G059AC22 ,  4G059FA05 ,  4G059FA07 ,  4G059FA12 ,  4G059FA13 ,  4G059FA28 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA16 ,  4H020AA01 ,  4H020AA03 ,  4H020AB02 ,  4H020BA31 ,  4H020BA34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-175784
  
• シリカ系膜被覆物品を製造する方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-342439   Applicant：日本板硝子株式会社
• 特開平2-175784