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J-GLOBAL ID：200903017266574229

ハイドレート製造方法及びその製造装置

Inventor： 西崎 進治 ,  国府田 康雄 ,  立花 淳 ,  平岡 龍三
Applicant, Patent owner： 石川島播磨重工業株式会社
Agent (1)： 山田 恒光 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999247610
Publication number (International publication number)：2001072615
Application date： Sep. 01, 1999
Publication date： Mar. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】 ハイドレートを効率良く生成する。【解決手段】 水を冷却して氷水スラリを製造する氷水スラリ製造器5と、氷水スラリと炭化水素ガスを攪拌してハイドレートを生成する反応器11,16と、ハイドレートから未反応の水を多分に分離する水分離器19と、ハイドレートにスラリ媒体を加えてスラリ状ハイドレートにし且つ該スラリ状ハイドレート中に残っている未反応の水をハイドレートにするよう炭化水素ガスと反応させて未反応の水を完全に除去する反応器46と、スラリ状ハイドレートを所定温度に冷却するスラリ調整器52と、スラリ状ハイドレートを所定温度に保ちつつ略常圧にまで減圧する減圧器63とを備える。

Claim (excerpt)：

水を冷却して氷水スラリとし、該氷水スラリと炭化水素ガスを攪拌してハイドレートを生成し、該ハイドレートから未反応の水を多分に分離し、ハイドレートを所定温度に冷却し、該所定温度を保ちつつ略常圧にまで減圧することを特徴とするハイドレート製造方法。

IPC (5)：

C07C 7/20 ,  C07C 5/00 ,  C07C 9/04 ,  C10L 3/10 CSK ,  F17D 1/04

FI (5)：

C07C 7/20 ,  C07C 5/00 ,  C07C 9/04 ,  F17D 1/04 ,  C10L 3/00 CSK D

F-Term (17)：

3J071AA12 ,  3J071AA23 ,  3J071BB02 ,  3J071CC01 ,  3J071DD21 ,  3J071DD36 ,  3J071EE01 ,  3J071EE24 ,  3J071EE27 ,  3J071FF16 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AD15 ,  4H006BA73 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11