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J-GLOBAL ID:200903017272781864
荷電粒子照射装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
曾我 道照 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998079720
Publication number (International publication number):1998326699
Application date: Mar. 26, 1998
Publication date: Dec. 08, 1998
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、構造を簡素化しつつ照射位置精度を向上させることを目的とするものである。【解決手段】 回転可能なガイドリング12とこれと一体に回転する放射線遮蔽壁14との間に複数のサイクロトロン支持部材15を架設し、そのサイクロトロン支持部材15でサイクロトロン16を支持し、サイクロトロン16の径方向外側のスペースを利用して、ビームモニタ等の機器18〜20を配置した。
Claim (excerpt):
設置室に回転可能に設けられているガイドリングと、このガイドリングに対向して上記設置室内に設けられ、上記ガイドリングとともに回転する放射線遮蔽壁と、上記ガイドリングと上記放射線遮蔽壁との間に架設されている複数のサイクロトロン支持部材と、上記ガイドリングの回転中心から偏心した位置で上記サイクロトロン支持部材に支持され、かつ中心軸が上記ガイドリングの回転中心に対して直交する方向へ延びており、上記ガイドリングとともに回転するサイクロトロンと、このサイクロトロンに接続され、上記ガイドリングとともに回転するビーム輸送系とを備えていることを特徴とする荷電粒子照射装置。
IPC (3):
H05H 13/00 ZAA
, A61N 5/10
, H05H 7/20
FI (3):
H05H 13/00 ZAA
, A61N 5/10 H
, H05H 7/20
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