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J-GLOBAL ID：200903017298614931

荷電粒子ビーム装置及びその制御方法

Inventor： 中野 光浩 ,  甲斐 潤一
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社 ,  富士通ヴイエルエスアイ株式会社
Agent (1)： 岡本 啓三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991161668
Publication number (International publication number)：1993013037
Application date： Jul. 02, 1991
Publication date： Jan. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は荷電粒子ビーム装置の改善に関し、被照射対象のステージ位置を初回ビーム走査時のみに限って読取り処理をすることなく、それを単位ビーム走査毎に読取り処理をして、ステージ移動速度を考慮した位置検出マークの検出処理をし、その露光処理等の高速化を図ることを目的とする。【構成】 被照射対象17に荷電粒子ビーム11Aを照射する荷電粒子発生源11と、前記荷電粒子ビーム11Aを偏向する偏向手段12と、前記被照射対象17に設けられた位置検出マークMを検出する第1の検出手段13と、前記被照射対象17のステージ位置を検出する第2の検出手段14と、前記被照射対象17を移動する移動手段15と、前記荷電粒子発生源11,偏向手段12,第1,第2の検出手段13,14及び移動手段15の入出力を制御する制御手段16とを具備し、前記制御手段16が連続移動する被照射対象17のステージ位置に係る位置検出信号S1に基づいて前記偏向手段12に供給する偏向信号S2,S3の補正をすることを含み構成する。

Claim (excerpt)：

被照射対象(17)に荷電粒子ビーム(11A)を照射する荷電粒子発生源(11)と、前記荷電粒子ビーム(11A)を偏向する偏向手段(12)と、前記被照射対象(17)に設けられた位置検出マーク(M)を検出する第1の検出手段(13)と、前記被照射対象(17)のステージ位置を検出する第2の検出手段(14)と、前記被照射対象(17)を移動する移動手段(15)と、前記荷電粒子発生源(11),偏向手段(12),第1,第2の検出手段(13,14)及び移動手段(15)の入出力を制御する制御手段(16)とを具備し、前記制御手段(16)が連続移動する被照射対象(17)のステージ位置に係る位置検出信号(S1)に基づいて前記偏向手段(12)に供給する偏向信号(S2,S3)の補正をすることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。

IPC (3)：

H01J 37/305 ,  H01J 37/147 ,  H01L 21/66

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭62-229940
  
• 特開昭56-157027
  
• 特開昭61-283121
  
• 特開昭52-038697