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J-GLOBAL ID：200903017309207659

積層磁性膜およびそれを用いた磁気ヘツドならびに磁気記録・再生装置

Inventor： 藤原 英夫 ,  光岡 勝也 ,  杉田 愃
Applicant, Patent owner： 日立マクセル株式会社 ,  株式会社日立製作所
Agent (1)： 武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992091017
Publication number (International publication number)：1993291037
Application date： Apr. 10, 1992
Publication date： Nov. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】 磁界感度の高い積層磁性膜ならびに磁気ヘツド(磁気記録・再生装置)を提供することにある。【構成】 少なくとも、第1の磁性膜5と第2の磁性膜5との間に第1の中間膜6が介在され、前記第2の磁性膜5と第3の磁性膜との間に第2の中間膜6が介在されて各磁性膜が積層してなる積層磁性膜において、前記各磁性膜5が磁気的にソフトな膜で構成されているとともに、前記第1の中間膜6の膜厚t1 と第2の中間膜6の膜厚t2 とが等しくない(t1 ≠t2 但し、中間膜6の膜厚tは0を含む)ことを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

少なくとも、第1の磁性膜と第2の磁性膜との間に第1の中間膜が介在され、前記第2の磁性膜と第3の磁性膜との間に第2の中間膜が介在されて各磁性膜が積層してなる積層磁性膜において、前記各磁性膜が磁気的にソフトな膜で構成されているとともに、前記第1の中間膜の膜厚t1 と第2の中間膜の膜厚t2 とが等しくない(t1 ≠t2 但し、中間膜の膜厚tは0を含む)ことを特徴とする積層磁性膜。

IPC (5)：

H01F 10/12 ,  G11B 5/09 301 ,  G11B 5/147 ,  H01F 10/14 ,  H01F 10/16