Pat

J-GLOBAL ID：200903017328410929

パターン形成方法

Inventor： 松岡 晃次
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 滝本 智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995060751
Publication number (International publication number)：1996264408
Application date： Mar. 20, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】 線幅精度を向上させて正確で安定したレジストパタ-ン形成する。【構成】 ウエハのセンター付近に現像終点検出専用パタ-ンを配置し、その部分に光を照射し、その反射光をモニターすることによって線幅を制御する。

Claim (excerpt)：

デバイスが形成されない領域を有するウエハ上にレジストを塗布する工程と、前記デバイスが形成されない領域に現像終点検出専用パターンを露光する工程と、前記レジストを現像するとともに前記現像終点検出専用パターンに光を照射してその反射光の光強度から前記レジストの現像終点検出を行なう工程と、前記現像終点検出の結果を基にして現像条件を制御して前記ウエハ上のデバイスが形成された領域のパターンを形成する工程とを有するパタ-ン形成方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (2)：

H01L 21/30 569 G ,  G03F 7/30 501

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開昭60-136278
  
• 特開昭58-070530
  
• 特開昭54-012672
  
• 特開昭54-010677
  

Cited by examiner (4)

• 特開昭54-012672
  
• 特開昭54-010677
  
• 特開昭58-070530
  
• 特開昭60-136278