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J-GLOBAL ID:200903017336997114

被覆部材の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998121134
Publication number (International publication number):1999310876
Application date: Apr. 30, 1998
Publication date: Nov. 09, 1999
Summary:
【要約】【課題】基材と被覆膜との密着性が高くかつ表面が平滑な被覆膜をもつ部材の製造方法を提供する。【解決手段】基材の被覆すべき表面に予め希ガスに属するガス及び水素の一種類以上を含む凹凸形成ガスと窒素、炭素及び酸素の一種類以上を含む凹凸促進ガスとの混合ガスを用いてイオン衝撃し、平均高さが10〜100nmの範囲、平均の幅が10〜300nmの範囲にある凸部を形成して凹凸面とする。この凹凸面によりその上に形成される被覆膜が強固に固定される。凹凸促進ガスを併用することにより凹凸面の形成が容易となり安定化する。
Claim (excerpt):
基材の被覆すべき表面に予め希ガス及び水素の一種類以上を含む凹凸形成ガスと窒素、炭素及び酸素の一種類以上を含む凹凸促進ガスとの混合ガスを用いてイオン衝撃し、平均高さが10〜100nmの範囲、平均の幅が10〜300nmの範囲にある凸部を形成して凹凸面とする第1工程と、該凹凸面上に被覆膜を形成する第2工程と、を有することを特徴とする被覆部材の製造方法。
IPC (5):
C23C 16/02 ,  C23C 14/02 ,  C23C 16/50 ,  C23C 26/00 ,  C23F 4/00
FI (5):
C23C 16/02 ,  C23C 14/02 Z ,  C23C 16/50 ,  C23C 26/00 L ,  C23F 4/00 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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