Pat
J-GLOBAL ID:200903017339627490
フィルム成膜装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
安田 敏雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001097265
Publication number (International publication number):2002294458
Application date: Mar. 29, 2001
Publication date: Oct. 09, 2002
Summary:
【要約】【課題】 プラズマCVD法において、バリヤ性に優れた薄膜を高速で形成することができるフィルム成膜装置を提供すること。【解決手段】 所定幅のフィルム3を長手方向に移動させつつその表面に、プラズマCVD装置2により成膜するフィルム成膜装置において、前記プラズマCVD装置2は、プラズマ源9と原料ガス供給手段10とを有し、前記プラズマ源9は、前記フィルム3の幅方向に沿って同軸に配置された外筒12と内筒13とを有し、該両筒12,13には、前記フィルム3に対面する一側に軸方向に沿って複数の孔15が設けられ、前記外筒12はアノードとされ、前記内筒13はカソードとされ、該カソード内でホロカソード放電を生じさせて、前記孔15よりプラズマジェット18を放出させ、前記フィルム3表面に成膜させるものである。
Claim (excerpt):
所定幅のフィルムを長手方向に移動させつつその表面に、プラズマCVD装置により成膜するフィルム成膜装置において、前記プラズマCVD装置は、プラズマ源と原料ガス供給手段とを有し、前記プラズマ源は、前記フィルムの幅方向に沿って同軸に配置された外筒と内筒とを有し、該両筒には、前記フィルムに対面する一側に軸方向に沿って複数の孔が設けられ、前記外筒はアノードとされ、前記内筒はカソードとされ、該カソード内でホロカソード放電を生じさせて、前記孔よりプラズマジェットを放出させ、前記フィルム表面に成膜させるものであることを特徴とするフィルム成膜装置。
IPC (4):
C23C 16/509
, B01J 19/08
, C23C 16/54
, H05H 1/42
FI (4):
C23C 16/509
, B01J 19/08 H
, C23C 16/54
, H05H 1/42
F-Term (32):
4G075AA24
, 4G075AA42
, 4G075AA52
, 4G075AA63
, 4G075BA02
, 4G075BC04
, 4G075BD14
, 4G075CA47
, 4G075CA53
, 4G075CA63
, 4G075DA02
, 4G075EA05
, 4G075EB41
, 4G075EC09
, 4G075ED04
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030AA14
, 4K030BA44
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030EA06
, 4K030FA03
, 4K030GA14
, 4K030KA12
, 4K030KA16
, 4K030KA17
, 4K030KA20
, 4K030KA30
, 4K030KA41
, 4K030LA01
, 4K030LA24
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