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J-GLOBAL ID：200903017381012900

投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法

Inventor： 吉岡 均
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994113895
Publication number (International publication number)：1995302752
Application date： Apr. 28, 1994
Publication date： Nov. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ウエハ面上の照度分布を高精度に測定し、高解像度のパターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を得ること。【構成】 照明系からの光束により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する際、該基板面と略同一平面上に位置するピンホール、該ピンホールからの光束の通過光量を調節するフィルター、そして該フィルターを通過した光量を検出する受光素子とを有する光検出器を該基板面近傍に設け、該光検出器を該基板面に沿って移動させることにより、該基板面上の照度分布を求めていること。

Claim (excerpt)：

照明系からの光束により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する際、該基板面と略同一平面上に位置するピンホール、該ピンホールからの光束の通過光量を調節するフィルター、そして該フィルターを通過した光量を検出する受光素子とを有する光検出器を該基板面近傍に設け、該光検出器を該基板面に沿って移動させることにより、該基板面上の照度分布を求めていることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/54 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 516 C ,  H01L 21/30 502 G