熱反応炉のシールパージ方法及び装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：三枝英二 , 掛樋悠路 , 眞下晋一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005012809
Publication number (International publication number)：2005244190
Application date： Jan. 20, 2005
Publication date： Sep. 08, 2005
Summary：

【課題】パージガスによる反応ガスの希薄化の不均一による膜厚のばらつきを改善できるシールパージの方法及び装置を提供する。【解決手段】パージガスは、シールを通して反応チャンバー12に拡散することができるので、重力と浮力の影響により、パージガスの分子量がシールおよびガス排気管24を含む反応チャンバー12の部分にパージガスを残存させるように、パージガスは、プロセスガス並びにシールおよガス排気管24の位置に基づいて選択される。好適には、ガス排気管24は、パージガスによるプロセスガスの希薄化を最小にするように、反応チャンバー12の同じ端にパージガスを保持し、それによって、パージガスが処理結果に不利益に影響することを防いでいる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

反応チャンバーにプロセスガスを供給するためのガス供給装置を備える前記反応チャンバーを有する熱反応炉と、前記チャンバーからガスを排気するための、前記反応チャンバーの下流端に配置されたガス排気管とを提供するステップであって、互いに接触する反応炉部品が、前記下流端近くに配置されたメカニカルシールを形成するステップと、前記反応炉部品間のインターフェイスを横切って前記反応チャンバーの内部に前記パージガスを供給するステップと、前記プロセスガスの濃度を決定するステップと、前記下流端が前記反応チャンバーの下端にある時は、前記プロセスガスより高い濃度のパージガスが選択され、前記下流端が前記反応チャンバーの上端にある時は、前記プロセスガスより低い濃度のパージガスが選択されるように前記パージガスを選択するステップとを備えるメカニカルシールパージ方法。

IPC (1)：

H01L21/31

FI (1)：

H01L21/31 E

F-Term (10)：

5F045AA20 , 5F045AC11 , 5F045AC15 , 5F045AC16 , 5F045AF01 , 5F045BB01 , 5F045DP19 , 5F045DP28 , 5F045DQ05 , 5F045EB12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

熱処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-088976 Applicant：東京エレクトロン東北株式会社
ロードロック装置のガス置換方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-223822 Applicant：国際電気株式会社
縦型熱処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-293047 Applicant：東京エレクトロン株式会社

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