完全密閉型気液洗浄装置及び洗浄方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福森久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998027657
Publication number (International publication number)：1999233471
Application date： Feb. 09, 1998
Publication date： Aug. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は、洗浄効率が良好な洗浄を行うことが可能な完全密閉型気液洗浄装置および洗浄方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の洗浄装置は、内部に洗浄用流体を導入するための洗浄用流体導入口と、内部の洗浄流体を外部へ排出するための洗浄用流体排出口とを有し、内部に被洗浄物を収納後密閉可能な洗浄槽と、前記洗浄用流体排出口に接続され、洗浄後の洗浄用流体を溜めるためのタンクと、該タンクの内部を減圧状態にするための減圧手段と、を有することを特徴とする完全密閉型気液洗浄装置である。

Claim (excerpt)：

内部に洗浄用流体を導入するための洗浄用流体導入口と、内部の洗浄流体を外部へ排出するための洗浄用流体排出口とを有し、被洗浄物を内部に収納後密閉可能な洗浄槽と、前記洗浄用流体排出口に接続され、洗浄後の洗浄用流体を溜めるためのタンクと、該タンクの内部を減圧状態にするための減圧手段と、を有することを特徴とする完全密閉型気液洗浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 642 , B08B 3/08 , B08B 3/10

FI (4)：

H01L 21/304 642 A , B08B 3/08 Z , B08B 3/08 A , B08B 3/10 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

半導体装置の洗浄方法と洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-130337 Applicant：松下電器産業株式会社
減圧洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-082761 Applicant：日立プラント建設株式会社
特開平1-140631

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