Pat

J-GLOBAL ID：200903017450404123

パターン認識方法および装置並びにそれが使用されたパターン読取装置

Inventor： 山谷 和弘 ,  長井 晴夫 ,  宮崎 功 ,  赤岩 正康
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
Agent (1)： 梶原 辰也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993123428
Publication number (International publication number)：1994309435
Application date： Apr. 26, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 辞書パターンの作成管理を容易にし、パターン認識を高速化する。【構成】 辞書パターンとして標準パターン51、52、53・・・が予め登録されたメモリー41と、各標準パターンの画素がずらされて変形パターン51a、51b・・・が生成される変形パターン生成手段43とを備え、標準パターン51と被認識パターン50とが不一致であった場合に、変形パターン生成手段43において生成された変形パターン51a、51b・・・と、被認識パターン50とが照合されて被認識パターン50が認識される。【効果】 メモリー41に登録された標準パターン51、52、53・・・を変形して、多種多様に変形した被認識パターン50を全て認識できるため、メモリー41に登録しておくパターンの数を低減でき、辞書パターンの作成管理を簡単化でき、パターン認識時間を短縮できる。

Claim (excerpt)：

被認識パターンと、予め登録されている辞書パターンとを照合することにより、被認識パターンを認識するパターン認識方法において、前記辞書パターンについて標準パターンが予め登録されており、前記照合に際して、この標準パターンと被認識パターンとが不一致であった場合に、標準パターンの画素がずらされて変形パターンが生成され、この変形パターンと前記被認識パターンとが照合されることにより、前記被認識パターンが認識されることを特徴とするパターン認識方法。

IPC (4)：

G06F 15/62 405 ,  G01B 11/24 ,  G06K 9/62 ,  H01L 21/02