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J-GLOBAL ID：200903017461879697
露光装置の評価方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994012447
Publication number (International publication number)：1995219243
Application date： Feb. 04, 1994
Publication date： Aug. 18, 1995
Summary：
【要約】【目的】 ウエハステージを駆動して露光装置の各種特性の評価を行う評価方法において、ウエハステージのステッピング誤差を軽減すると共に、評価に要する時間を短縮し、且つ評価用のウエハの枚数を削減する。【構成】 適正露光量をEAとして、ウエハ上のX方向に配列されたショット領域17A〜17F上にそれぞれ露光量EA/nで評価用マーク像15A,16A〜15F,16Fを露光するという動作をn回繰り返す。評価用マーク像15B〜15Fと評価用マーク像16A〜16EとのY方向への横ずれ量を計測すると、これがステッピング誤差の低減されたY軸用の移動鏡の曲がり量を表す。
Claim (excerpt)：
2次元平面内で移動自在なステージ上に載置された感光基板上に、マスク上の転写用のパターンを露光する露光装置の前記ステージの位置決め精度を評価する方法において、前記マスクとして評価用マークが形成されたマスクを用い、前記ステージ上に評価用感光基板を載置し、前記ステージを駆動して前記評価用感光基板上の複数の計測領域上にそれぞれ前記評価用マークを多重露光し、前記評価用感光基板上の前記複数の計測領域上に多重露光により形成されたマークの位置を計測し、該計測結果に基づいて前記ステージの位置決め精度を評価することを特徴とする露光装置の評価方法。
IPC (5)：
G03F 9/00
, G01B 11/00
, G01M 11/00
, G03F 1/08
, H01L 21/027
Cited by examiner (10)
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