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J-GLOBAL ID：200903017489372059

電子ビーム描画装置

Inventor： 武田 実 ,  安芸 祐一
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998087372
Publication number (International publication number)：1999288529
Application date： Mar. 31, 1998
Publication date： Oct. 19, 1999
Summary：

【要約】【課題】 小型且つ構成簡素にして所望のピットやグルーブに対応したパターンを精度良く描画することができると共に、生産性の向上を図ることができる電子ビーム描画装置を提供する。【解決手段】 電子銃11と対物レンズ23とが減圧状態とされた環境内に配設されていると共に、対物レンズ23と基板50との間にヘリウム雰囲気とされた部分が設けられ、基板支持手段130が、大気中に設置される。

Claim (excerpt)：

電子銃から出射される電子ビームを基板支持手段に支持された基板上のレジスト層に照射して、このレジスト層に光学記録媒体のパターンに対応したパターンを描画する電子ビーム描画装置において、少なくとも上記電子銃とこの電子銃から出射された電子ビームを集束して上記レジスト層に照射させる対物レンズとが大気中よりも減圧状態とされた環境内に配設されていると共に、上記対物レンズと上記基板との間にヘリウム雰囲気とされた部分が設けられ、上記基板支持手段は、大気中に設置されていることを特徴とする電子ビーム描画装置。