Pat
J-GLOBAL ID:200903017498456591

排ガス浄化用触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長門 侃二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999370358
Publication number (International publication number):2001129402
Application date: Dec. 27, 1999
Publication date: May. 15, 2001
Summary:
【要約】【課題】 排ガス浄化用触媒において、触媒層に添加された吸蔵剤の担体内への浸透や吸蔵剤の触媒からの蒸発、飛散を抑制し、触媒の耐久性および排ガス浄化能力の低下を防止する。【解決手段】 吸蔵剤が添加された触媒層(30)と担体(10)との間にゼオライト層(50)またはシリカ層またはチタニア層が形成される。触媒を長時間にわたって高温下で使用した場合にも、触媒層(30)から担体(10)への吸蔵剤の移動がゼオライト層(50)またはシリカ層またはチタニア層により抑制される。
Claim (excerpt):
担体と触媒層とを含み、この触媒層にアルカリ金属及びアルカリ土類金属からなる群から選択される少なくとも一つを吸蔵剤として添加してなる排ガス浄化用触媒において、触媒中に抑制層を設けて上記触媒における上記吸蔵剤の移動を抑制することを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (4):
B01J 23/58 ,  B01D 53/94 ,  B01J 29/068 ZAB ,  B01J 33/00
FI (4):
B01J 23/58 A ,  B01J 29/068 ZAB A ,  B01J 33/00 B ,  B01D 53/36 102 D
F-Term (47):
4D048AA06 ,  4D048AB01 ,  4D048BA03X ,  4D048BA03Y ,  4D048BA06X ,  4D048BA06Y ,  4D048BA07X ,  4D048BA07Y ,  4D048BA09X ,  4D048BA09Y ,  4D048BA11X ,  4D048BA11Y ,  4D048BA14X ,  4D048BA14Y ,  4D048BA15X ,  4D048BA15Y ,  4D048BA30X ,  4D048BB02 ,  4D048BB03 ,  4D048BC04 ,  4D048CC36 ,  4D048CC44 ,  4D048EA04 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02B ,  4G069BA04B ,  4G069BA07A ,  4G069BA07B ,  4G069BA13B ,  4G069BA50 ,  4G069BC01A ,  4G069BC03A ,  4G069BC03B ,  4G069BC08A ,  4G069BC13B ,  4G069BC20A ,  4G069BC24A ,  4G069BC29A ,  4G069BC49A ,  4G069BC53A ,  4G069BC57A ,  4G069CA03 ,  4G069CA13 ,  4G069DA06 ,  4G069EA19 ,  4G069FA06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page