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J-GLOBAL ID：200903017549212609

磁気ディスクの製造方法

Inventor： 横山 正孝 ,  茂 智雄 ,  佐々木 俊英
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998166686
Publication number (International publication number)：2000003515
Application date： Jun. 15, 1998
Publication date： Jan. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ディスク基板を効率的研磨する方法を提供することにより、記録再生特性の優れた磁気ディスクを生産性よく製造する方法の提供。【解決手段】 基板上に磁気記録層を形成して磁気ディスクを製造する方法において、基板を単結晶ダイヤスラリーを用いた第1段研磨と多結晶ダイヤスラリーを用いた第2段研磨とからなる多段研磨することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。

Claim (excerpt)：

基板上に磁気記録層を形成して磁気ディスクを製造する方法において、基板を単結晶ダイヤスラリーを用いた第1段研磨と多結晶ダイヤスラリーを用いた第2段研磨とからなる多段研磨することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。

F-Term (5)：

5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA06 ,  5D112GA13 ,  5D112GA14