Pat

J-GLOBAL ID：200903017552863750

マスク

Inventor： 石川 恵美子 ,  松本 真吾 ,  佐藤 淳
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002320851
Publication number (International publication number)：2004154209
Application date： Nov. 05, 2002
Publication date： Jun. 03, 2004
Summary：

【課題】防塵、花粉の吸い込みを軽減させ、なおかつ着用快適性を損なわないマスクを提供する。【解決手段】カバーファクター1600以上の織物もしくはカバーファクター35以上の編物が表層、内層に粗密度織物を4〜10枚積層した状態となるように配置されたマスク。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

カバーファクター1600以上の織物が表層となるように配置されたことを特徴とするマスク。

IPC (3)：

A62B18/02 ,  B01D39/08 ,  B01D39/14

FI (3)：

A62B18/02 C ,  B01D39/08 Z ,  B01D39/14 B

F-Term (13)：

2E185AA07 ,  2E185BA01 ,  2E185BA07 ,  2E185CC32 ,  2E185CC73 ,  4D019AA01 ,  4D019BA12 ,  4D019BA13 ,  4D019BB02 ,  4D019BB10 ,  4D019BC07 ,  4D019BD01 ,  4D019CB04