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J-GLOBAL ID：200903017595333607

酸性銅めっき浴及びこれを使用するめっき方法

Inventor： 西浜 幸男 ,  池田 雅彦
Applicant, Patent owner： 奥野製薬工業株式会社
Agent (1)： 三枝 英二 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993308063
Publication number (International publication number)：1995157890
Application date： Dec. 08, 1993
Publication date： Jun. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、従来の電流密度及び温度以外の範囲、即ち0.1〜1、5〜10A/dm2 の電流密度及び30〜35°Cの高温浴のめっきにおいても、優れた外観及び物性を有するめっき浴を提供することを主な目的とする。【構成】1.硫酸銅、硫酸及び塩素イオンを基本組成とする酸性銅めっき浴であって、(1)一般式:【化1】で示される化合物の少なくとも1種、(2)一般式:M1 SO3 -R8 -R9 -(S)m -R10で示される化合物の少なくとも1種、(3)一般式:【化2】で示される化合物の少なくとも1種、(4)ポリエーテル化合物の少なくとも1種及び(5)一般式:【化3】で示される化合物の少なくとも1種を特定量で含有することを特徴とする酸性銅めっき浴。2.上記の酸性銅めっき浴を使用することによるめっき方法。

Claim (excerpt)：

硫酸銅、硫酸及び塩素イオンを基本組成とする酸性銅めっき浴であって、(1)一般式:【化1】〔式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 及びR7 は、同一又は相異なって、水素原子、水酸基、スルホン酸基及びアミノ基からなる群から選択される原子又は基である。nは2〜500の範囲の数である。〕で示される化合物の少なくとも1種を0.05〜0.2g/l、(2)一般式:M1 SO3 -R8 -R9 -(S)m -R10〔式中、M1 は、水素原子、アルカリ金属又はアンモニウムである。R8 は、酸素原子又は炭素数1〜5のアルキレン架橋基、R9 は、炭素数1〜5のアルキレン架橋基、R10は、水素原子、金属原子、炭素数1〜10の脂肪族アルキル基、又は炭素数6〜10の芳香族アルキル基、一般式:M1 SO3 -R8 -R9 -の基(M1、R8 及びR9 は上記に同じ)、又は一般式:【化2】の基(式中、R11及びR12は、同一又は相異なって、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す)である。mは1〜5である。〕で示される化合物の少なくとも1種を0.005〜0.1g/l、(3)一般式:【化3】〔式中、R13、R14、R15及びR16は、一般式:【化4】(式中、M2 は、水素原子、アルカリ金属又はアンモニウムを示し、zは1〜5、x及びyは1〜10)で表される基である。pは1〜5である。〕で示される化合物の少なくとも1種を0.01〜0.05g/l、(4)夫々について平均分子量200〜100000のポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンオレインエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル及びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルからなる群から選ばれた化合物の少なくとも1種を0.04〜0.08g/l並びに、(5)一般式:【化5】〔式中、R17は、炭素数1〜4のアルキレン架橋基、R18は、炭素数1〜3のアルキレン架橋基、R19は、炭素数1〜3のアルキレン架橋基、R20は、炭素数1〜10のアルキル基及びR21は、炭素数1〜10のアルキル基である。qは、2〜500である。〕で示される化合物の少なくとも1種を0.002〜0.01g/lを含有することを特徴とする酸性銅めっき浴。