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J-GLOBAL ID：200903017612967828

洗浄機能付きの微酸性水噴霧器

Inventor： 野村 明男 ,  桂 忠生 ,  箕田 恒介 ,  鈴木 正喜 ,  佐藤 博次 ,  中川 哲男 ,  根本 崇 ,  ▲高▼野 和彦
Applicant, Patent owner： 東レアイリーブ株式会社 ,  株式会社ホクエツ ,  ヒロセ電機株式会社
Agent (4)： 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  今城 俊夫 ,  西島 孝喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005091001
Publication number (International publication number)：2006271449
Application date： Mar. 28, 2005
Publication date： Oct. 12, 2006
Summary：

【課題】 電解装置の洗浄作業を容易に行うことができる、洗浄機能付きの微酸性噴霧器を提供するものである。【解決手段】 希塩酸を電気分解して塩素ガスを発生させるガス発生装置と、塩素ガスと混合させて次亜塩素酸水とする水を貯蔵する貯蔵装置と、次亜塩素酸水を噴霧する噴霧装置と、次亜塩素酸水の生成後に貯蔵装置の水をガス発生装置へ導いてガス発生装置を洗浄する洗浄装置と、を備える。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

希塩酸を電気分解して塩素ガスを発生させるガス発生装置と、 塩素ガスと混合させて次亜塩素酸水とする水を貯蔵する貯蔵装置と、 前記次亜塩素酸水を噴霧する噴霧装置と、 前記次亜塩素酸水の生成後に前記貯蔵装置の水を前記ガス発生装置へ導いて前記ガス発生装置を洗浄する洗浄装置と、 を備えることを特徴とする洗浄機能付き微酸性水噴霧器。

IPC (5)：

A61L 2/20 ,  A61L 9/14 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/76 ,  C25B 1/26

FI (7)：

A61L2/20 G ,  A61L9/14 ,  C02F1/50 531N ,  C02F1/50 540B ,  C02F1/50 550D ,  C02F1/76 A ,  C25B1/26 A

F-Term (19)：

4C058AA06 ,  4C058AA23 ,  4C058BB07 ,  4C058JJ07 ,  4C058JJ24 ,  4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080BB05 ,  4C080HH03 ,  4C080JJ01 ,  4C080KK06 ,  4C080MM01 ,  4C080QQ03 ,  4D050AB06 ,  4D050BB05 ,  4D050BD04 ,  4K021AA03 ,  4K021BA05 ,  4K021DB21

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 次亜塩素酸水溶液による殺菌方法および殺菌装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-370754   Applicant：ソニー株式会社, ブイティーエイ株式会社
• 次亜塩素酸含有水溶液による室内殺菌・脱臭方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-084556   Applicant：岡崎龍夫

Cited by examiner (2)

• 間歇式自動電解次亜塩素酸水生成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-326874   Applicant：株式会社ホクエツ
• 次亜塩素酸水溶液による殺菌方法および殺菌装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-370754   Applicant：ソニー株式会社, ブイティーエイ株式会社