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J-GLOBAL ID:200903017625792237
新規ゼオライトの製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
須藤 政彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003435651
Publication number (International publication number):2005194113
Application date: Dec. 26, 2003
Publication date: Jul. 21, 2005
Summary:
【課題】新しい結晶構造を有する高シリカ含有ゼオライトを、効率的に製造することを可能とする新規ゼオライトの製造方法を提供する。【解決手段】 化学組成が[(Si36-XO72)・MZ](式中、MはLi、Na、K、Rb、Csに代表されるアルカリ金属陽イオンを表し、xは0≦x≦3.0、zは0≦ z ≦3.0の範囲を表す。)で表され、特定の粉末X線回折パターンにおける格子面間隔d(Å)を有するゼオライトの製造方法であって、前駆体の有機結晶化調整剤含有層状珪酸塩を、分子状酸素を含有する支燃性ガス流通下もしくは存在下において、脱水重縮合させることからなるゼオライトの製造方法。【効果】 シリカ含有量が高い高シリカゼオライトを、簡便な操作で、容易に、しかも効率的に製造し、提供することができる。【選択図】なし
Claim (excerpt):
化学組成が[(Si36-XO72)・MZ](式中、MはLi、Na、K、Rb、Csに代表されるアルカリ金属陽イオンを表し、xは0≦x≦3.0、zは0≦ z ≦3.0の範囲を表す。)で表され、粉末X線回折パターンにおける格子面間隔d(Å)が少なくとも下記表1に記載されたものであるゼオライトの製造方法であって、前駆体の有機結晶化調整剤含有層状珪酸塩を、分子状酸素を含有する支燃性ガス流通下もしくは存在下において、脱水重縮合させることを特徴とするゼオライトの製造方法。
表1
格子面間隔d(Å) 相対強度(ピーク)
9.21±0.00 100
6.87±0.05 35
6.13±0.05 5
5.52±0.05 4
4.86±0.05 2
4.59±0.05 3
4.47±0.05 7
4.37±0.05 7
4.10±0.05 6
IPC (1):
FI (1):
F-Term (12):
4G073BB42
, 4G073BB48
, 4G073CA06
, 4G073CZ54
, 4G073FB11
, 4G073FC19
, 4G073FC25
, 4G073FD21
, 4G073FF06
, 4G073GA03
, 4G073UA01
, 4G073UA06
Patent cited by the Patent:
Article cited by the Patent:
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