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J-GLOBAL ID:200903017656067069

放射性廃液からセシウムを除去する方法およびヘキサシアノ鉄酸塩の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 越場 隆
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1998502409
Publication number (International publication number):2000512759
Application date: Jun. 26, 1997
Publication date: Sep. 26, 2000
Summary:
【要約】可溶性ヘキサシアノ鉄酸塩化合物と遷移元素の塩からカラム使用に適した粒状遷移元素ヘキサシアノ鉄酸塩を製造する。可溶性ヘキサシアノ鉄酸塩化合物の水溶液を撹拌しながら遷移元素塩水溶液に徐々に添加することによって遷移元素へキサシアノ鉄酸塩の沈殿物を作り、得られたヘキサシアノ鉄酸塩沈殿物を洗浄し、遠心分離でスラリー化した溶液から沈殿物を分離し、最後に、温度を上げて沈殿物を乾燥する。本発明では遷移元素塩溶液の濃度は0.35モル/lであり、得られた遷移元素のヘキサシアノ鉄酸塩化合物は30%以下、好ましくは28%以下の交換可能な遷移元素分を含む。この交換可能な遷移元素分はアルカリ金属/EDTA錯体の溶液で化合物を洗浄することによってさらに低減することができる。本発明の化合物は分配係数が10,000ml/g以上である。
Claim (excerpt):
セシウム含有水溶液を遷移元素の固体ヘキサシアノ鉄酸塩化合物と接触させてセシウムをヘキサシアノ鉄酸塩と結合させ、セシウム含有量が減少した水溶液をヘキサシアノ鉄酸塩から分離する段階を含む、水溶液、特に核廃液からセシウムを除去する方法において、交換可能な遷移元素分が35%以下である遷移元素ヘキサシアノ鉄酸塩を用いることを特徴とする方法。
IPC (3):
G21F 9/06 581 ,  B01J 39/08 ,  G21F 9/10
FI (3):
G21F 9/06 581 E ,  B01J 39/08 ,  G21F 9/10 G
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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