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J-GLOBAL ID：200903017658872627
感光性レジスト組成物およびパターン形成方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
柏谷 昭司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993178903
Publication number (International publication number)：1995036188
Application date： Jul. 20, 1993
Publication date： Feb. 07, 1995
Summary：
【要約】【目的】 感光性レジスト組成物およびパターン形成方法に関し、KrFエキシマレーザーに適したSi含有ポジ型感光性レジスト組成物を提供する。【構成】 下記の化学構造を有する樹脂と光酸発生剤によって構成する。【化1】
Claim (excerpt)：
下記の化学構造を有する樹脂と光酸発生剤よりなる感光性レジスト組成物。【化1】
IPC (5)：
G03F 7/039
, G03F 7/004 503
, G03F 7/075 511
, H01L 21/027
, H01L 21/312
