静電チャックの離脱方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井上俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996324558
Publication number (International publication number)：1998150099
Application date： Nov. 20, 1996
Publication date： Jun. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】半導体ウエハなどの被処理体を静電チャックから離脱させるときに、残留吸着により被処理体に無理な力が加わって破損することを未然に防止すること。【解決手段】静電チャック3の吸着用電圧の印加を解除した後、リフトピン5により微小突出量だけウエハWを突き上げる。ウエハWはプロセス終了直後は静電チャック3よりも数十度温度が高いので、ウエハWが離脱すれば静電チャック3の表面部の温度は本来の静電チャック3の温度まで降下し、ウエハWが離脱しなければ温度は降下しない。そこで静電チャック3に組み込んだウエハWの温度センサを用いてウエハWの微小量突き上げの後の温度データに基づいてウエハWが離脱しているか残留吸着しているかを判断し、残留吸着していれば受け渡しを中止する。

Claim (excerpt)：

静電チャック上に被処理体を静電吸着する工程と、次いで前記静電チャックの吸着用電圧の印加を解除する工程と、その後被処理体が静電チャックに残留吸着しているとしても被処理体が破壊されない程度の力を被処理体に対して静電チャックから離れる方向に加え、このときの被処理体の載置状態に基づいて被処理体が静電チャックに残留吸着しているか離脱しているかを判断する判断工程と、この判断工程で被処理体が離脱していると判断された後、被処理体を静電チャックから受け渡し手段に受け渡す工程と、を含むことを特徴とする静電チャックの離脱方法。

IPC (2)：

H01L 21/68 , H02N 13/00

FI (2)：

H01L 21/68 R , H02N 13/00 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

静電チャック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-038072 Applicant：住友金属工業株式会社
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-317939 Applicant：株式会社神戸製鋼所
特開平4-162448

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