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J-GLOBAL ID：200903017691574801

高純度シリカガラスの製造方法

Inventor： 田中 秀二 ,  青山 武 ,  古沢 道隆
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 山本 亮一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994137215
Publication number (International publication number)：1996002929
Application date： Jun. 20, 1994
Publication date： Jan. 09, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はゾル-ゲル法による高純度シリカガラスの製法を安価に行なうことができる方法の提供を目的とするものである。【構成】 本発明による高純度シリカガラスの製造方法は、テトラアルコキシシランをアンモニア水またはアンモニア、アルコールを含有する水溶液中で連続的に加水分解してシリカゾルを得る加水分解工程、このシリカゾルを固液分離し、洗浄してウエットゲルとする工程、このウエットゲルをガラス化、粉砕、篩別、浮遊選鉱後に塩酸処理する工程、浮遊選鉱工程およびフッ酸洗浄工程などの湿式精製工程で使用される純水を比抵抗が5〜17MΩ・cmのものとしてなることを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

テトラアルコキシシランをアンモニア水またはアンモニア、アルコールを含有する水溶液中で連続的に加水分解してシリカゾルを得る加水分解工程、このシリカゾルを固液分離し、洗浄してウエットゲルとする工程、このウエットゲルをガラス化、粉砕、篩別、浮遊選鉱後に塩酸処理する工程、浮遊選鉱工程およびフッ酸洗浄工程の湿式精製工程で使用される純水を比抵抗が5〜17MΩ・cmのものとしてなることを特徴とする高純度シリカガラスの製造方法。

IPC (3)：

C03B 8/02 ,  C01B 33/18 ,  C03C 3/06