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J-GLOBAL ID：200903017699495749
表示装置の表面基板処理膜とその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994218919
Publication number (International publication number)：1996083581
Application date： Sep. 13, 1994
Publication date： Mar. 26, 1996
Summary：
【要約】【目的】表示装置の表面基体に反射防止/帯電防止/漏洩電磁界低減膜を形成する。【構成】表示装置の表面基板(基体)1と空気層4との間に高屈折率層2と低屈折率層3をこの順で形成して外来光の反射防止、静電気の帯電防止、または漏洩電磁界の低減を行うための表面基板処理膜において、前記高屈折率層2は、前記表面基板1側から前記低屈折率層3に向かって順次小となる密度分布を有し、前記低屈折率層3と共に前記表示基板側1から前記空気層4の間に屈折率が連続的に小さくなるグレーディッド型膜構造を形成した。
Claim (excerpt)：
表示装置の表面基板と空気層との間に高屈折率層と低屈折率層をこの順で形成して外来光の反射防止、静電気の帯電防止、または漏洩電磁界の低減を行うための表面基板処理膜において、前記高屈折率層は、前記表面基板側から前記低屈折率層に向かって順次小となる密度分布を有し、前記低屈折率層と共に前記表示基板側から前記空気層の間に屈折率が連続的に小さくなるグレーディッド型膜構造を形成してなることを特徴とする表示装置の表面基板処理膜。
IPC (4)：
H01J 29/89
, G02B 1/11
, H01J 9/20
, H01J 29/88
