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J-GLOBAL ID：200903017703841711

スパッタリングターゲット

Inventor： 渡辺 雄二 ,  大林 元太郎
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992247728
Publication number (International publication number)：1994101032
Application date： Sep. 17, 1992
Publication date： Apr. 12, 1994
Summary：

【要約】【構成】本発明は、少なくとも、カルコゲン化合物、酸化物および炭素(C)を含むスパッタリングターゲットであって、該ターゲットは、酸化物-炭素複合体と、カルコゲン化合物とを成型してなるものであることを特徴とするスパッタリングターゲットに関する。【効果】本発明のスパッタリングターゲットをスパッタリングして薄膜を形成する場合、形成された薄膜の組成がターゲットの組成と極めて良く一致し、所望の組成の薄膜が容易に形成できる。さらに、長期にわたるスパッタリングを行っても、ターゲット表面の組成が変化せずに、形成される薄膜の組成もほとんど変化しない。

Claim (excerpt)：

少なくとも、カルコゲン化合物、酸化物および炭素(C)を含むスパッタリングターゲットであって、該ターゲットは、酸化物-炭素複合体と、カルコゲン化合物とを成型してなるものであることを特徴とするスパッタリングターゲット。