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J-GLOBAL ID:200903017712025625

感光材料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 秋元 輝雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992196572
Publication number (International publication number):1994019136
Application date: Jun. 30, 1992
Publication date: Jan. 28, 1994
Summary:
【要約】【目的】 紫外線や遠紫外線、X線、電子線等を光源とするLSI等の半導体素子製造用フォトリソグラフィーのレジストとして好適であって、ドライエッチング耐性が極めて強いため極めて薄い膜厚で使用でき、このため非常な高解像度と感光度を示すような感光材料を開発する。【構成】 フラーレンに感光基を付加することにより得られる感光材料により目的を達成できる。
Claim (excerpt):
フラーレンに感光基を付加することにより得られる感光材料。
IPC (3):
G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

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