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J-GLOBAL ID：200903017734783280

薬液供給装置

Inventor： 藪田 光男
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996336626
Publication number (International publication number)：1998177940
Application date： Dec. 17, 1996
Publication date： Jun. 30, 1998
Summary：

【要約】【課題】 装置の稼働率を向上させ、また配管系に蓄積されたパーティクル(ダストや気泡)を自動的に除去して作業能率を向上させ、ダストや気泡によるレジストパターンの異常を防止する。【解決手段】 薬液を基板側に送給する2系統の薬液配管系A,Bと、2系統の薬液配管系A,Bの上流側に接続して洗浄液により薬液配管系を洗浄する洗浄液配管系Cと、2系統の薬液配管系A,Bの下流側に接続して薬液および廃液のパーティクルを検出し基板に薬液を供給する検出塗布配管系nと検出ドレイン配管系dとを具備した。

Claim (excerpt)：

薬液を基板側に送給する2系統の薬液配管系を備えた薬液供給機構と、該薬液供給機構の上流側に接続して洗浄液により薬液供給機構を洗浄する洗浄機構と、薬液供給機構の下流側に接続して薬液および廃液のパーティクルを検出し基板に薬液を供給するパーティクル検出機構とを具備したことを特徴とする薬液供給装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (3)：

H01L 21/30 564 Z ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 A