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J-GLOBAL ID：200903017764295353

電子線用レジスト組成物

Inventor：
徐 載景

About 徐 載景

, 
山口 訓史

About 山口 訓史

, 
太田 義輝

About 太田 義輝


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000218855
Publication number (International publication number)：2002031892
Application date： Jul. 19, 2000
Publication date： Jan. 31, 2002
Summary：
【要約】【課題】 感度や解像度に優れるとともに、良好なプロファイル及び高い残膜率を与えるなど、優れた特性を有する電子線用レジスト組成物を提供する【解決手段】 下式(I)及び下式(II)(式中、R1及びR3は互いに独立に、水素又は炭素数1〜4のアルキルを表し、R2及びR4は互いに独立に、水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、全炭素数2〜5のアルコキシカルボニル、全炭素数1〜5のアシル、全炭素数1〜5のアシルオキシ、ニトロ、シアノ、フッ素、塩素又は臭素を表す)で示される各構造単位を有する樹脂(A)及び電子線の作用により酸を発生する酸発生剤(B)を含有することを特徴とする、電子線用フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
下式(I)及び下式(II)(式中、R1及びR3は互いに独立に、水素又は炭素数1〜4のアルキルを表し、R2及びR4は互いに独立に、水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、全炭素数2〜5のアルコキシカルボニル、全炭素数1〜5のアシル、全炭素数1〜5のアシルオキシ、ニトロ、シアノ、フッ素、塩素又は臭素を表す)で示される各構造単位を有する樹脂(A)及び電子線の作用により酸を発生する酸発生剤(B)を含有することを特徴とする、電子線用フォトレジスト組成物。
IPC (6)：
G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (6)：
G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (32)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC06 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BC121 ,  4J002EB116 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU186 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002EY026 ,  4J002FD200 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J002HA05 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA06Q ,  4J100CA04 ,  4J100FA03 ,  4J100JA37
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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