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J-GLOBAL ID:200903017797312415
リッジ導波路型半導体レーザ素子
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992122730
Publication number (International publication number):1993291703
Application date: Apr. 15, 1992
Publication date: Nov. 05, 1993
Summary:
【要約】【目的】 p型基板を用いるリッジ導波路型半導体レーザ素子のしきい値電流を低下させ、発光効率を向上させる。【構成】 p型半導体基板11上に形成された活性層15上に、n型の第1上部クラッド層17およびリッジメサからなるn型の第2上部クラッド層18を順次積層し、前記第1上部クラッド層17の厚さを4000Å以下にし、かつ、第1上部クラッド層17のキャリア濃度とその移動度の積を2×1020cm-1V-1s-1以下にする。
Claim (excerpt):
p型半導体基板上に形成された活性層上に、n型の第1上部クラッド層およびリッジメサからなるn型の第2上部クラッド層が順次積層され、前記第1上部クラッド層の厚さが4000Å以下で、かつ、第1上部クラッド層のキャリア濃度とその移動度の積が2×1020cm-1V-1s-1以下であることを特徴とするリッジ導波路型半導体レーザ素子。
IPC (2):
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