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J-GLOBAL ID:200903017804759048

薄膜の厚さを求める方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山崎 行造 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992351953
Publication number (International publication number):1993248826
Application date: Dec. 09, 1992
Publication date: Sep. 28, 1993
Summary:
【要約】【目的】 サンプル上の薄膜の厚さまたは他の光定数を測定する方法および装置が開示される。【構成】 装置には、線形に偏光されたプローブ・ビームを発生させるレーザが含まれる。プローブ・ビームは入射角の広がりを作るためにサンプル表面上にきっちり集束される。反射されたプローブ・ビームは、四角セル検光器の上に当たる前に1/4波長板および線形偏光器を通過する。検光器からの出力信号は、いろいろいな入射角を持つ個々の光線の輝度の積分を表わす。直径方向に対向する象限の出力信号の和と和の間の差を取ることによって、極薄膜の膜の厚さと共に線形に変化する値が得られる。本デバイスは、より厚い膜の感度を強めるために他の従来のデバイスと共に使用することができる。
Claim (excerpt):
放射線プローブ・ビームを発生させる装置と、集束されたプローブ・ビーム内のいろいろな光線が入射角の広がりを作るようにサンプルの表面に実質的に垂直にプローブ・ビームを集束する装置と、プローブ・ビームの他の偏光状態の位相に応じてプローブ・ビーム内の1つの偏光状態の位相を遅延させる装置と、プローブ・ビームがサンプルの表面から反射されてからプローブ・ビームの2つの偏光状態間の干渉を作る偏光装置と、2つの直交軸に沿って反射されたプローブ・ビームの出力が、前記遅延および偏光装置を通過してから測定する検出装置であって、異なる入射角を持ついろいろいな光線の輝度を積分する出力を発生し、該出力が前記2つの直交軸に対応する2つの成分を有する検出装置と、該検出装置の出力に基づくサンプル上の薄膜のパラメータを求めるプロセッサ装置とを有するサンプルの表面上の薄膜のパラメータを求める装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 特開平3-017505
  • 特開平3-205536
  • 特開昭60-242308

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